2024.10.13(일) 12:35
한국뉴욕주립대학교(총장 김춘호)와 POSTECH(총장 김용민)은 세계 5대 패션스쿨 중 하나인 FIT (Fashion Institute of Technology)의 2014년 여름 단기 프로그램을 개설한다.
작년과 재작년에 이어 올해 3번째로 실시되는 FIT 여름 단기 프로그램은 7월 21일부터 25일까지 5일 간 진행되며 패션 및 관련 분야 에 특별한 관심이 있는 만 17세 이상의 참가자를 선착순 모집한다. 이번 프로그램은 특별히 FIT에서 직접 교과과정을 기획•진행하는 프로그램으로, 부총장 및 학장 등 각 분야별 담당 FIT 교수진들이 직접 내방하여 진행 하는 것으로 알려져 올해 역시 큰 관심이 모아지고 있다. 프로그램은 기본적으로 영어로 진행되지만, 요청 시 통역 서비스가 제공된다.
또한, 프로그램 수료자에게는 FIT에서 발급하는 공식 수료증이 수여되며, 필요에 따라 별도로 기숙사를 신청할 수 있다.
1944년 뉴욕 맨하튼에 설립된 FIT는 전세계에서 손꼽히는 패션스쿨 중 하나로, 한국뉴욕주립대학교와 같은 SUNY(뉴욕주립대) 소속의 학교로서 학생들에게 예술, 디자인, 기술, 비즈니스를 패션산업에 접목하여 실제적인 융합 교육을 제공한다. 패션계를 선도하고 있는 캘빈 클라인(Calvin Klein), 마이클 코어스(Michael Kors) 데이빗 추(David Chu) 등을 배출한 명문대학으로도 잘 알려져 있다.
이번 FIT 여름 단기 프로그램에서는 사스 브라운(Sass Brown) 패션디자인 교수, 스티븐 프럼킨(Steven Frumkin) 텍스타일 분야 교수, 로버트 레이드(Robert Reid) 리테일링 교수, 친주 예(Chin-Juz Yeh) 그래픽 디자인 교수 등 각 분야별 FIT 교수진들이 직접 강의를 진행한다.
한국뉴욕주립대학 관계자는 “국내 유망한 패션 분야 지망생들이 명성 있는 FIT 교수진과 네트워크를 만들 수 있는 흔치 않은 기회”라고 밝히며, “작년 FIT 여름 단기 프로그램이 커다란 성원에 마무리 된 만큼 이번 FIT 여름 단기 프로그램에 대한 기대가 크고 무엇보다 한국뉴욕주립대와 POSTECH 학생들의 참여로 최근 화두로 떠오르는 테크놀로지와의 융합에 대해 패션전공자들과 함께 생각해 볼 수 있다는 점에서 더욱 의미가 있다”며, "향후 FIT 학부과정 개설을 논의 중이다"라고 밝혔다.
POSTECH 관계자 역시, “앞으로는 IT를 기반으로 다양한 분야에서 창의적인 사고를 할 수 있는 융합형 인재가 한국의 미래를 선도해나갈 것”이라며 “이번 기회를 통해 한국뉴욕주립대와 POSTECH의 IT분야를 전공하는 미래의 공학자들이 패션과 테크놀로지의 융합에 관한 새로운 패러다임을 모색해보는 도전적인 경험을 할 수 있을 것으로 기대한다”고 밝혔다.
작년과 재작년에 이어 올해 3번째로 실시되는 FIT 여름 단기 프로그램은 7월 21일부터 25일까지 5일 간 진행되며 패션 및 관련 분야 에 특별한 관심이 있는 만 17세 이상의 참가자를 선착순 모집한다. 이번 프로그램은 특별히 FIT에서 직접 교과과정을 기획•진행하는 프로그램으로, 부총장 및 학장 등 각 분야별 담당 FIT 교수진들이 직접 내방하여 진행 하는 것으로 알려져 올해 역시 큰 관심이 모아지고 있다. 프로그램은 기본적으로 영어로 진행되지만, 요청 시 통역 서비스가 제공된다.
또한, 프로그램 수료자에게는 FIT에서 발급하는 공식 수료증이 수여되며, 필요에 따라 별도로 기숙사를 신청할 수 있다.
1944년 뉴욕 맨하튼에 설립된 FIT는 전세계에서 손꼽히는 패션스쿨 중 하나로, 한국뉴욕주립대학교와 같은 SUNY(뉴욕주립대) 소속의 학교로서 학생들에게 예술, 디자인, 기술, 비즈니스를 패션산업에 접목하여 실제적인 융합 교육을 제공한다. 패션계를 선도하고 있는 캘빈 클라인(Calvin Klein), 마이클 코어스(Michael Kors) 데이빗 추(David Chu) 등을 배출한 명문대학으로도 잘 알려져 있다.
이번 FIT 여름 단기 프로그램에서는 사스 브라운(Sass Brown) 패션디자인 교수, 스티븐 프럼킨(Steven Frumkin) 텍스타일 분야 교수, 로버트 레이드(Robert Reid) 리테일링 교수, 친주 예(Chin-Juz Yeh) 그래픽 디자인 교수 등 각 분야별 FIT 교수진들이 직접 강의를 진행한다.
한국뉴욕주립대학 관계자는 “국내 유망한 패션 분야 지망생들이 명성 있는 FIT 교수진과 네트워크를 만들 수 있는 흔치 않은 기회”라고 밝히며, “작년 FIT 여름 단기 프로그램이 커다란 성원에 마무리 된 만큼 이번 FIT 여름 단기 프로그램에 대한 기대가 크고 무엇보다 한국뉴욕주립대와 POSTECH 학생들의 참여로 최근 화두로 떠오르는 테크놀로지와의 융합에 대해 패션전공자들과 함께 생각해 볼 수 있다는 점에서 더욱 의미가 있다”며, "향후 FIT 학부과정 개설을 논의 중이다"라고 밝혔다.
POSTECH 관계자 역시, “앞으로는 IT를 기반으로 다양한 분야에서 창의적인 사고를 할 수 있는 융합형 인재가 한국의 미래를 선도해나갈 것”이라며 “이번 기회를 통해 한국뉴욕주립대와 POSTECH의 IT분야를 전공하는 미래의 공학자들이 패션과 테크놀로지의 융합에 관한 새로운 패러다임을 모색해보는 도전적인 경험을 할 수 있을 것으로 기대한다”고 밝혔다.
최두희 cdh4112@schooli.kr
